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项目简介：

WI-V1 (Wafer Inspection) 是一款专为有图与无图平面器件表面缺陷快速检测而设计的在线高分辨率光学检测设备。该设备采用了明、暗场光学成像相结合的大面阵扫描方式，能够实现大视场高速高分辨成像。通过在线部署高算力计算设备，并行视觉计算及深度学习缺陷查找算法，实现了高通量的图像数据处理能力，每秒处理的无损图像数据超过1G，能够满足产线的生产节拍要求。

应用场景：

WI-V1适用于多个行业，如半导体晶圆制造、显示面板生产、光电子器件制造等，可广泛应用于生产线的质量控制和缺陷检测环节，为客户提供高质量、高效率的解决方案。

应用案例：

该系统目前已成功应用于某上市公司的面板生产线，其出色表现使得产线良率得到了显著提升。这一成就不仅有效地降低了人工成本和物料浪费成本，而且在很大程度上推动了公司生产效率的提升。通过系统的精准监控和智能优化，公司实现了生产过程的精细化管理，从而有效地优化了生产流程，提高了产品质量和生产效率。

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